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[INSPIRATION] IL PASSE D’UN CAMP DE RÉFUGIÉ AU KENYA À HARVARD

Fatah Abdi Hussein est un jeune étudiant somalien de 18 ans qui est né dans un camp de réfugié dans le Nord-Est du Kenya. Ses parents avaient fui les violences et la sécheresse en Somalie au début des années 1990 afin de donner une vie meilleure à leurs 8 enfants.

Aujourd’hui, l’étudiant vient d’être accepté à l’Université d’Harvard, aux Etats-Unis, l’une des écoles les plus prestigieuses au monde. Il suivra des cours de sciences et d’ingénierie informatique en automne prochain.

Durant toute sa scolarité au lycée, Fatah s’est battu et a tout donné même pour réussir sa scolarité afin de faire honneur à ses parents qui ont tout sacrifié pour que lui ainsi que ses frères et sœurs aient un meilleur avenir.

Pour Fatah, il doit sa réussite à ses parents qui n’ont pas cessé de l’encourager et il compte bien les remercier quand il aura terminé ses études en leur achetant tout ce dont ils ont besoin.

Le frère aîné de Fatah, Jamal, est également dans une université américaine, celle de de Boston.

« Il a été le premier à aller à l’université, donc il nous a montré que nous pouvions le faire. Je voulais l’imiter et j’ai fini faire mieux que lui « , a déclaré Fatah avec un rire, et un soupçon de fierté.

Pour ses camarades de classe et sa famille, le parcours de Fatah est inspirant et motivant.

NegroNews

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